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高真空CVD炉

高真空CVD炉

  • 所属分类:高真空CVD炉
  • 加工的原料:碳碳复合材料、单层石墨烯、碳纳米管等

  • 产品概述

高真空CVD炉

高真空CVD炉产品介绍

  CVD炉(化学气相沉积炉)是用于在特定压力下将金属卤化物、金属有机物、碳氢化合物等反应源加热气化后在目标材料表面反应生成固态沉积物的设备,广泛用于多晶或玻璃态无机薄膜材料沉积、物质提纯、新晶体研制、各种单晶的沉积等。我司CVD炉能精确控制气体的流量和压力,使炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;多通道沉积气路对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理。

1、单层石墨烯CVD生长:受控的一种或多种碳源气体在预热的气体分配板内裂解,在铜箔基材上生长(包括钌、铱,镍等金属基板),单次实现了>95% 的单层石墨烯覆盖,通过多次刻蚀沉积,可实现100%全覆盖单层石墨烯生长。我司CVD炉能精准控制温度、压力、流速、载气量。

2、碳纳米管CVD生长:经设计的铁基纳米催化颗粒,在900-1100 °C 的高温和一定的真空压力下运行,通入乙炔、甲烷、天然气等碳源气体,控制气体流动方向和反应器中的停留时间,可获得高质量直径长度可控的碳纳米管。

3、碳碳复合材料CVD增密:受控的一种或多种碳源气体在高温下裂解,通入成型的预制体,在长时间热处理过程中,逐渐在空隙中沉积,并且逐渐将碳转变成更大的石墨晶体,形成高强度的碳纤维增强碳-碳复合材料。

加工的原料:碳碳复合材料、单层石墨烯、碳纳米管等

化学气相沉积炉性能特点:

1、石墨箱体密闭沉积室,密封效果和抗污染能力强

2、多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积材料均匀性好

3、防腐炉体和真空机组设计,持续工作时间长,低维修率

4、先进的控制技术,精密控制气体流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小

5、环保安全、能有效处理产生的废气和粉尘

6、全程水电气自动化监控,可一键置换抽真空冲氩气过程,设备温度显示、升温曲线、预警报警、皆可在触摸屏上进行查看和操作

7、自动化程度高,可实现一键置换(炉内抽真空,冲氩气过程),运行过程中全程水电气自动监控,触摸屏仿真随时可观察设备运行状态,设备报警指示,升温曲线,开关机操作都可在触摸屏上查看和操作。

8、安全高,炉体部分安装自动防爆阀,安全可靠。感应器部分单独安装流量开关,实时监控水流情况。电源严格有效的按要求设定过电流值,过电压值。

9、高真空CVD炉设备集成监控界面可在PC端远程监控,管理者可以随时观察设备运行状态,调取设备运行记录与工艺参数。

10、我公司有完善的售后团队,使客户在后期使用过程中完全没有后顾之忧。

高真空CVD炉

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