石墨烯CVD生长
围绕铜箔等金属基材的单层石墨烯沉积，配置配气、压力、反应区和尾气系统。
应用说明
单层二维石墨烯薄膜具有独特的光学、电学和力学特性。设备方案需围绕基材、气体配方、温度、压力、流场和覆盖率检测方法确定。
PROCESS EQUIPMENT
主要工艺设备
页面之间按真实工艺关系互相链接，帮助客户从应用进入设备选型。
NO. 28工程实施路径
工艺确认顺序
- 确认原料形态与目标性能
- 确定温度、时间、压力和气氛窗口
- 核算单批装料量或连续产能
- 匹配尾气、真空、配气、冷却和控制系统