CX-INDUCTION

CVD沉积装备

按反应源、基材、沉积材料与压力窗口配置反应热场及配气系统。

高真空CVD炉

用于受控温度、压力和配气条件下的化学气相沉积。不同反应源、基材与沉积材料需分别设计。

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碳纳米管CVD生长炉

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单层石墨烯CVD生长炉

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